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無(wú)塵無(wú)氧烘箱的工藝要求

發(fā)布日期: 2022-04-15
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   無(wú)塵無(wú)氧烘箱適用于半導體、光電元件、能原材料、通訊產(chǎn)品、機電產(chǎn)品等作無(wú)氧化干燥、固化、焊接、退火等高溫處理。
  無(wú)氧烘箱的工藝要求:
  1.在外延片表面上涂覆光敏BCB膠,采用光刻的方法在外延片表面形成光敏BCB膠圖形;
  2.采用等離子體反應刻蝕處理外延片表面的光敏BCB膠;
  3.將刻蝕后的外延片放入真空無(wú)氧烘箱中,通入N2→真空置換后,采用多升溫保溫的方式,在規定的時(shí)間從室溫升至一溫度階段,并在該溫度段保溫1-2h,再在規定的時(shí)間從一溫度升至第二溫度階段,并在該溫度段保溫一定的時(shí)間;
  4.隨后增通過(guò)輔助的降溫系統(水冷和風(fēng)冷),將退火爐的溫度降至80度左右,完成固化。
  無(wú)氧烘箱是一種提供高溫、低氧、潔凈環(huán)境的特殊制程設備。烘箱內部為不銹鋼結構,全部采用無(wú)塵材料,箱內可充氮、真空,使烘箱工作室內處于低氧、潔凈狀態(tài)。工作室內溫度由溫控儀自動(dòng)控制,并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置,曲線(xiàn)升溫、恒溫、快速降溫。并附設有超溫斷開(kāi)加熱、氧含量檢測、輔助降溫裝置及報警電路,使用安全。
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